虽然整体半导体产业面临趋缓，但用于曝光制程的光罩护膜（pellicle）仍维持供不应求。随着美国对国内半导体产业制裁的加深，国内IC设计及晶圆代工业者数量增加，以及全球AI半导体新创企业的涌现，光罩护膜的需求大幅增长。
主要光罩护膜供应商如Topan、Portronics、DNP等工厂稼动率皆维持在100%水准，部分国内IC设计及晶圆代工业者更支付额外费用，以期缩短交货时间。然而，由于需求高涨，主要供应商的产能已接近极限，预计即使在需求增加的情况下，短期内仍难以满足市场需求。
光罩护膜在半导体曝光制程中起到防止光罩上的灰尘或其他污染物对光罩造成损伤的作用。随着制程技术的进步和美国制裁的影响，国内半导体产业正在大规模扩张，对光罩护膜的需求也随之大幅增加。
另外，中芯国际透过深紫外光（DUV）设备量产7纳米制程，相较极紫外光（EUV）制程，在部分图案化（patterning）过程需使用3~5倍的光罩护膜量。同时，随着ChatGPT等AI服务正式商用化，各式业者开始投入AI半导体研发，从边缘用到服务器用AI半导体，相关新创企业也大量登场，进一步推高了光罩护膜的需求。
尽管主要供应商如Topan、Portronics、DNP等正在积极扩大产能，但业界人士表示，预计即使在需求增加的情况下，短期内仍难以满足市场需求。随着需求增加，石英价格也在上涨，预计2024年光罩价格上调可能性高。
因此，尽管整体半导体产业面临趋缓，但光罩护膜市场仍然供不应求。主要供应商需要继续扩大产能并改进生产工艺以满足不断增长的需求。同时，对于国内IC设计及晶圆代工业者而言，需要密切关注市场动态并提前规划以应对潜在的市场变化。
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