新型石墨烯过滤膜有望解决半导体制造中的PFAS污染问题

据Tom's Hardware报道，澳大利亚蒙纳许大学研究团队近期开发出一种新型石墨烯过滤膜，可有效去除水流中的全氟／多氟烷基物质（PFAS）。这种物质因难以自然分解，被称为“永久性化学物质”，在半导体制造中广泛应用，但也带来了严重的环境污染问题。
PFAS在半导体供应链中扮演重要角色，例如微影制程中使用的光阻剂液体和蚀刻室中的气体。然而，PFAS具有极高的水溶性，扩散范围广，传统聚酰胺膜仅能去除约35%的PFAS，而新型石墨烯过滤膜的去除率超过90%，性能大幅提升。
研究团队采用剪切校准打印技术生产过滤膜，这一方式具备高度可扩展性。此外，蒙纳许大学与石墨烯制造商NematiQ关系密切，后者已承诺协助推广这项技术。预计该过滤膜很快将实现商用化，为工业废水处理和垃圾掩埋场渗出液净化提供新方案。
据2022年某晶圆厂数据显示，其排放废水中PFAS含量高达7.8万ppt，远超美国国家环境保护局（EPA）规定的4ppt标准。尽管有人呼吁全面禁用PFAS，但考虑到其在半导体制造中的重要性，这在短期内并不现实。因此，开发高效污染控制技术成为关键。
这一突破性技术不仅有助于减少PFAS污染，还能帮助半导体产业在经济效益与环境保护之间找到更好的平衡点。

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