尼康推出新一代光刻机产品 机构关注更小制程进展

日前,尼康宣布推出新一代具有5倍缩小投影倍率的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”,预计2024年夏季上市,代表了尼康5倍步进技术在过去25年中最重大的更新。

光刻机作为半导体最核心设备,已成为全球科技界关注焦点。据媒体此前报道,上海微电子设备(集团)有限公司正在致力于研发28纳米浸没式光刻机,预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。研究机构指出,通过浸没式光刻机,以及双重曝光、多重曝光、计算光刻等技术,理论上可以用DUV制造7纳米工艺芯片。

公司方面,万润股份积极布局聚酰亚胺材料、半导体制造材料等其他电子信息材料领域,持续丰富电子信息材料产品线;福光股份是航天级高端镜头以及军用光学核心供应商,研发了光刻机等半导体设备的镜头产品。
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