荷兰半导体设备制造商ASML首席执行长Peter Wennink表示,尽管存在一些供应商的阻碍,公司今年仍将按计划在其下一个产品线中推出首款测试工具。该款高数值孔径的极紫外光刻(EUV)机器只有卡车大小,每台成本超过3亿欧元(台币102亿元),顶级芯片制造商需要这些机器,以便能够在未来十年生产更小、更好的芯片。
在将高数值孔径EUV投入商业生产之前,客户将对其进行试验,逻辑芯片制造商比存储器芯片制造商更需要此工具。
只有台积电、英特尔、三星以及存储器芯片制造商SK海力士和美光使用ASML目前的领先产品,即常规EUV工具,每台成本超过2亿美元。在美国的压力下,荷兰政府不授予ASML向中国芯片制造商出口EUV工具的许可证。
另外,Wennink证实,到2023年,ASML上一代深紫外光刻(DUV)机器的销售额将超过EUV机器。ASML预计今年销售额将增长30%,部分原因是中国大陆客户对旧机器的强劲需求。
Wennink表示,随着高端AI芯片需求的蓬勃发展,美国亚利桑那州和中国台湾的新芯片工厂也准备好接收EUV设备并使用,这种情况应该会在2024年发生逆转。
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