主要优点
1、提供卓越的经济承受能力，同时支持各种需求
NSR-2205iL1 将提供高生产率，同时通过使用多点自动对焦 (AF) 的高精度晶圆测量、先进的晶圆平台调平（通过倾斜放置晶圆的工作台来校正曝光期间曝光图像平面和基板表面之间的偏移的机构）和宽 DOF（扩展的焦深范围）来优化各种半导体制造工艺的良率水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸兼容性、高晶圆翘曲容限以及灵活的功能（包括但不限于支持 碳化硅和 氮化镓加工），它非常适合各种应用。NSR-2205iL1 i-line 步进机将提供卓越的经济性，同时满足芯片制造商的多样化要求。
2、与现有产品和晶圆厂运营兼容
NSR-2205iL1 可以与现有晶圆厂运营兼容，在晶圆厂中拥有尼康 i-line 曝光系统的客户可以继续利用现有的资产和运营，例如光掩模和晶圆曝光解决方案。此外，NSR-2205iL1 还可以补充或替换不再满足制造要求的现有步进式光刻机。
3、专为长期使用和可持续性而设计
NSR-2205iL1 可以放心地长期使用，因为其设计采用通用商用组件，比以往更容易采购零件，并为未来提供更可持续的光刻解决方案。
编辑：芯智讯-林子
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