在半导体领域的合作浪潮中，三星电子与ASML宣布达成一项重要备忘录，将联手投资1兆韩元，在韩国设立先进半导体制程技术研究中心。此次合作还将利用下一代极紫外（EUV）曝光机进行深入研究。
与此同时，ASML还与SK海力士签署了环境、社会和公司治理（ESG）备忘录，双方将在多个领域展开合作。这一消息表明了半导体行业内强大的跨界合作趋势。
上个月初的消息曝光，揭示了三星电子计划在未来五年内从ASML采购50套设备，每套设备约价2,000亿韩圜，总价值可达10兆韩元。这显示了三星电子对于EUV曝光机的强烈需求，以应对其全球首个采用全栅极（GAA）技术的3奈米半导体晶片制程技术。
三星电子的战略目标是在2024年上半年实现第二代3奈米制程技术，并在2025年进入2奈米制程技术，最终在2027年达到1.4奈米半导体制程技术领域。为了实现这一目标，三星电子与ASML的合作成为关键一环。
值得关注的是，ASML计划在2023年底前发布首台商用High-NA（NA=0.55）EUV曝光机，预计2025年开始量产。这将使客户能够从传统EUV多重图案化转向High-NA EUV单一图案化，降低制程成本，提高产量。目前，ASML已锁定包括英特尔、台积电、SK海力士、美光等在内的五大客户。
三星电子与ASML的合作不仅在技术领域展现出强大合作潜力，同时也为半导体行业的未来发展注入了新的动力。
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