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盛美半导体推出涂胶显影Track设备

来源：责编：时间：2023-11-30 17:31:09 170观看

导读盛美上海作为具备世界先进技术的半导体设备制造商，在第102届中国电子展上展示了其新产品。盛美上海已经拥有丰富的产品阵容，包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备等。最近，盛美上海成

盛美上海作为具备世界先进技术的半导体设备制造商，在第102届中国电子展上展示了其新产品。盛美上海已经拥有丰富的产品阵容，包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备等。

最近，盛美上海成功推出涂胶显影Track设备，标志着该公司已正式进军半导体前道光刻领域。该设备采用垂直交叉架构，形成差异化竞争优势，可支持拓展至12个涂胶腔体及12个显影腔体，每小时晶圆产能可达300片。盛美上海已经向中国国内的逻辑客户交付首台ArF工艺的前道涂胶显影Track设备，并开始着手研发KrF型号的设备。

盛美上海新推出涂胶显影设备，将在多客户之间进行平行验证，有望提高设备的放量速度。自2024年开始，涂胶显影设备将成为盛美上海未来业绩成长的新增长曲线之一。

此外，盛美上海还推出了拥有自主知识产权的Ultra Pmax等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，该设备具有更好的薄膜均匀性、更优的薄膜应力和更少的颗粒特性等特点，可满足不同工艺和产能需求。盛美上海一直坚持“技术差异化”发展战略，不断推出差异化的新产品、新技术，提升公司的核心竞争力，扩大公司的收入和利润规模。

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