日本Canon社长兼CEO御手洗富士在近期的采访中表示，Canon推出的纳米压印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）技术的半导体生产设备，相比荷兰厂商ASML的极紫外光（EUV）曝光机，价格要便宜一位数（one digit less）。这一声明无疑是对ASML在先进制程领域的统治地位的直接挑战。
根据彭博社的报道，御手洗富士在2023年10月的访谈中指出，尽管具体的价格尚未确定，但Canon的NIL设备在成本上相较于EUV曝光机具有显著优势。他强调，许多半导体制造商对NIL技术展现出了浓厚的兴趣。
值得一提的是，Canon的NIL技术被用于制造相当于5纳米节点的逻辑IC电路，且未来有望进一步缩小到相当于2纳米节点。这一技术能够大大提升芯片的集成度和性能，进一步推动芯片制造技术的发展。
虽然Canon的NIL技术在制造速度上暂时无法与EUV曝光机相媲美，但其能耗只有EUV曝光机的10%，这一显著的节能优势将为芯片制造商带来巨大的经济效益。
当前，先进制程生产所需的EUV曝光机主要由ASML独家制造。每台EUV曝光机价值数亿美元，只有少数如台积电、三星电子等大型芯片制造商有能力采购。然而，由于各种原因，包括美国对国内半导体技术的封锁，ASML已无法向国内出售EUV曝光机。这无疑为Canon的NIL技术提供了一个巨大的市场机会。
尽管御手洗富士明确表示，他理解14纳米以下的技术出口是被禁止的，因此他并不认为NIL设备会取代EUV曝光机。但他坚信，NIL设备可以创造新的机会和需求，降低芯片制造商对晶圆代工厂的依赖，为小型芯片制造商提供全球竞争的机会，并降低进入先进制程芯片领域的门槛。
为了满足中长期的需求，Canon已决定在日本栃木县的宇都宫地区兴建新厂以增加半导体曝光机的产能。这座新工厂的建设费用约为380亿日圆（2.6亿美元），并计划在2025年上半年开始运营。
Canon的NIL技术的推出及其在市场上的表现，无疑将给ASML带来严峻的挑战。随着半导体技术的日益复杂和先进制程的不断推进，芯片制造商对于低成本、高效率和高度自动化的需求将越来越高。Canon的NIL技术能否在这方面提供足够的解决方案，将是其能否在市场上取得成功的关键。
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