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三星计划在华城园区新建1c DRAM量产线,预计2025年底投产

来源:icspec 责编: 时间:2025-05-23 12:14:31 238观看
导读据韩媒ZDNet Korea报道,三星电子计划在韩国华城园区新建第六代1c DRAM量产线,预计最快于2025年底开始投资。此举表明三星对其良率提升充满信心。三星此前已在平泽厂推进1c DRAM的量产计划。据传,2025年初,三星将在平泽第
据韩媒ZDNet Korea报道,三星电子计划在韩国华城园区新建第六代1c DRAM量产线,预计最快于2025年底开始投资。此举表明三星对其良率提升充满信心。
三星此前已在平泽厂推进1c DRAM的量产计划。据传,2025年初,三星将在平泽第四园区(P4)建立首条1c DRAM量产线,初期月产能约为3万片,规模较小。随后,三星计划在2025年下半年进一步扩大P4园区的1c DRAM产能,预计月产能将增至至少4万片。此外,华城17产线也有望在2025年底前启动1c DRAM的转换投资,目前正与相关协力厂协商具体计划。
华城17产线目前主要生产第三代10纳米级1z DRAM,但其生产比重正在快速下降。三星此前已在华城15产线和16产线完成了1b DRAM的转换投资。
1c DRAM是三星新一代高带宽存储器(HBM)HBM4的核心元件。与竞争对手SK海力士和美光在HBM4中采用1b DRAM不同,三星计划使用1c DRAM以优化产品性能。这对其在HBM市场中争夺主导权具有重要意义。
韩国半导体业界人士透露,三星内部对1c DRAM的良率提升持积极态度,目标是在2025年第三季度取得PRA(内部量产准备批准)。尽管后续仍需解决诸多课题才能实现量产,但设备投资计划正在稳步推进中。

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