SK海力士前员工因泄露核心技术被捕，涉及CIS与HBM技术

据韩联社、中央日报等韩媒报道，韩国首尔中央地方检察厅情报技术犯罪调查部以涉嫌违反《关于防止泄露并保护产业技术的法律》为由，逮捕并起诉了SK海力士中国分公司的一名前金姓员工。该员工被指控试图跳槽至华为子公司海思半导体，并在此过程中泄露了多项关键技术。
据调查，这名金姓员工涉嫌在2022年接受海思半导体的跳槽建议后，违反SK海力士的保密规定，以打印和拍摄等方式非法获取并泄露公司核心技术和营业机密数据。这些数据包括CMOS影像传感器（CIS）技术、高带宽存储器（HBM）用混合键合技术等先进技术。
检方透露，该员工拍摄的技术数据照片超过1.1万张。为掩盖数据外流的事实，他删除了部分文件中的“对外保密”字样和公司标志后才进行拍摄。此外，他还利用SK海力士的商业机密数据制作简历，并提交给两家中国公司。

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