英伟达下一代GPU或采用GAA技术，性能提升20%

据外媒Tom’s Hardware报道，英伟达CEO黄仁勋在GTC 2025大会访谈中提到，下一代GPU可能通过环绕栅极（GAA）晶体管技术实现约20%的性能提升。这款GPU预计为2028年推出的Feynman架构。
黄仁勋在访谈中提到，随着摩尔定律的放缓，新制程技术在密度、功率和能效方面的改进空间有限，因此制程节点的变化已不再是决定性因素。他强调，管理大量GPU的效率比单个GPU的原始性能更加重要，特别是在人工智能系统规模不断扩大的背景下。
英伟达通常不会率先采用台积电的最新制程节点，而是选择次新一代的尖端技术。例如，目前英伟达的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell架构GPU基于台积电的4nm制程，该制程是5nm节点的改良版。其下一代RuBin架构预计将采用台积电3nm制程，可能是N3P或定制版本。
至于Feynman架构，英伟达可能会使用台积电的N2制程技术，或者其改进版N2P。台积电N2制程预计比N3E性能提升10%-15%，而A16节点制程则计划在2027年投产，具备背面供电功能，性能比N2提升8%-10%。
如果Feynman GPU采用N2P或A16制程，其每瓦性能预计将比基于N3P的RuBin GPU提升20%。不过，面对AI计算的高需求，英伟达似乎更注重性能的最大化，而非单纯追求能耗优化。

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