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北方华创发布首款12英寸电镀设备,进军先进封装市场

来源:icspec 责编: 时间:2025-03-26 10:59:42 185观看
导读近日,北方华创正式推出其首款12英寸电镀设备(ECP)——Ausip T830。据北方华创官方微信公众号消息,这款设备专为硅通孔(TSV)铜填充设计,主要应用于2.5D/3D先进封装领域。该产品的发布标志着北方华创正式进入电镀设备市场,并在
近日,北方华创正式推出其首款12英寸电镀设备(ECP)——Ausip T830。据北方华创官方微信公众号消息,这款设备专为硅通孔(TSV)铜填充设计,主要应用于2.5D/3D先进封装领域。该产品的发布标志着北方华创正式进入电镀设备市场,并在先进封装领域形成了包括刻蚀、去胶、PVD、CVD、电镀、PIQ和清洗设备在内的完整互连解决方案。
电镀工艺作为物理气相沉积(PVD)的后道工序,与PVD设备协同工作,广泛应用于逻辑、存储、功率器件以及先进封装等芯片制造环节。在工艺流程中,PVD设备先在槽/孔内形成籽晶层,随后电镀设备完成槽/孔的无空隙填充。随着先进封装和三维集成技术的快速发展,电镀设备的全球市场规模已达到每年80-90亿元人民币,并预计未来几年将突破百亿。

Ausip T830设备突破了三十多项关键技术,展现了北方华创的技术实力。该设备采用高真空密封和电化学沉积技术,通过实时优化预润湿及电镀参数,实现了高深宽比TSV的精准填充。同时,设备优化了电场、流场和药液浓度,确保TSV内部及边缘铜沉积均匀,减少缺陷,提高芯片良率和可靠性。双层双腔架构支持同时处理两片晶圆,提升了产能并节省了空间。定制气缸和密封结构增强了设备稳定性,降低了维护成本。智能补液系统减少了添加剂使用量,助力绿色制造。此外,设备支持模块化定制和后续技术升级,能够满足多样化需求。目前,其电镀膜厚均匀性已达到客户要求,可有效填充孔直径2-12微米、孔深16-120微米的多种孔型产品。

北方华创表示,未来将抓住先进封装技术发展的机遇,持续加大研发投入,致力于提供先进封装领域的完整解决方案。同时,公司将继续深化与客户的合作,共同推动先进封装技术的进步,助力芯片产业迈向新高度。

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