英特尔High NA设备已投入生产，可靠性翻倍

英特尔工程师透露，首两台ASML高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影设备已投入生产，一季度内制造出3万片晶圆。该设备可靠性较旧时代设备高出1倍，展现出显著优势。lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

英特尔资深首席工程师Steven Carson表示，新设备不仅保持稳定的晶圆产出速度，还能通过单次曝光和少数处理步骤完成旧设备需多次曝光和复杂步骤的工作。lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

英特尔计划利用此高数值孔径设备助力Intel 18A制程技术开发，并将全面应用于更先进的Intel 14制程。Intel 18A预计2025年下半年量产，而Intel 14的具体时间表尚未公布。lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

此前，英特尔在晶圆制造竞争中落后于台积电等对手，部分原因在于较晚导入极紫外光设备，并在初期遭遇设备可靠性问题。因此，英特尔抢先购入高数值孔径设备，以期在新时代制程技术竞争中占据优势。lIv28资讯网——每日最新资讯28at.com

本文链接：http://www.28at.com/showinfo-27-133717-0.html英特尔High NA设备已投入生产，可靠性翻倍

声明：本网页内容旨在传播知识，若有侵权等问题请及时与本网联系，我们将在第一时间删除处理。邮件：2376512515@qq.com

上一篇： SpaceX拟向FAA提供Starlink终端机，以加快国家航太系统升级

下一篇： 达梭系统推出3D UNIV+RSES蓝图，引领产业新变革