台积电：A14进展顺利良率表现优于预期！性能较N2提升15%

快科技9月25日消息，近日，台积电公布了其下一代A14（1.4nm）工艺的新进展，称其进展顺利，良率表现优于预期。WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

除了良率，A14工艺在性能和能效方面相较于N2工艺有着显著的提升，具体来说，A14性能比N2快15%，功耗降低了30%。WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

台积电计划在A14工艺中采用第二代GAAFET纳米片晶体管和全新的NanoFlex Pro标准单元架构，这些技术的应用将使芯片密度比N2工艺提升高达20%。WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

这意味着在相同的芯片面积上，可以容纳更多的晶体管，从而实现更高的计算能力和更低的功耗。WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

目前，台积电预计A14工艺将在2028年进入量产阶段，苹果、英伟达和AMD等大客户也将采用这一新工艺，A14有望在未来几年内成为推动消费电子产品性能提升的关键力量。WLg28资讯网——每日最新资讯28at.com

本文链接：http://www.28at.com/showinfo-17-183918-0.html台积电：A14进展顺利良率表现优于预期！性能较N2提升15%

声明：本网页内容旨在传播知识，若有侵权等问题请及时与本网联系，我们将在第一时间删除处理。邮件：2376512515@qq.com

上一篇： 芯片承压！曝英伟达入局Robotaxi 业内人士：或打造“开放版FSD”吸引车企

下一篇： 提升幸福感！韩国开始讨论让所有企业执行每周4.5天工作制 工资不变