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引入AI技术，创锐光谱推出SiC缺陷检测设备

来源：责编：时间：2023-12-13 17:00:45 239观看

导读大连创锐光谱科技宣布，他们的无损光学检测技术取得了突破性进展，同时推出专用设备SIC-SUB-9900。该设备采用瞬态激发和散射光谱原理，结合AI识别，能高速、精准地无损检测碳化硅（SiC）衬底晶圆位错缺陷。相较于传统X光形貌分析

大连创锐光谱科技宣布，他们的无损光学检测技术取得了突破性进展，同时推出专用设备SIC-SUB-9900。该设备采用瞬态激发和散射光谱原理，结合AI识别，能高速、精准地无损检测碳化硅（SiC）衬底晶圆位错缺陷。

相较于传统X光形貌分析技术，SIC-SUB-9900操作简单、检测速度快，性价比更高。通过大面积成像，该设备在检测速度上实现了质的飞跃，对于6吋晶圆样品，最快检测时间不到17分钟。

位错缺陷是SiC衬底晶圆质量的关键指标，直接影响外延层的质量和芯片的良率。因此，SIC-SUB-9900的精准检测、识别和统计功能对衬底晶圆生产至关重要。

创锐光谱创立于2016年，以自主技术为基础，专注科学仪器和半导体材料检测领域。今年早些时候，SiC-MAPPING532系统成功下线，成为全球首台套基于瞬态光谱技术的第三代半导体缺陷检测设备，取得了国产替代进口产品的巨大成功。

创锐光谱的不断创新和发展也在吸引资金。今年5月，公司宣布完成数千万元天使轮融资，由君联资本独家投资，用于新技术开发和检测设备量产。

这一新闻揭示了国内半导体市场对本土检测设备的日益关注，同时也反映出半导体检测设备本土化是一个不可避免的趋势。在这个快速增长的市场中，国产技术逐步获得认可，为半导体产业的可持续发展注入了新的活力。

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