浸润式光刻之父：依靠DUV可从7nm推向5nm 但成本将非常高

11月27日消息，近日有着“浸润式光刻之父”之称的林本坚（Burn Lin）在接受采访时表示，依靠DUV光刻机继续将制程工艺从7nm推向5nm是可能，但是需要付出高昂的代价。PVI28资讯网——每日最新资讯28at.com

报道称，由于美日荷对华半导体设备的限制，使得中国不仅难以获得可以制造先进制程的半导体设备，同时更为先进的EUV光刻机也无法获得。这也使得中国继续将制裁工艺推进到5nm将会面临困境。PVI28资讯网——每日最新资讯28at.com

不过，林本坚表示，依托现有的DUV光刻机（浸没式）制造出5nm芯片依然是可行的，但是至少需要进行四重曝光。不幸的是，这种工艺的缺点是不仅耗时，而且价格昂贵，还会影响整体良率。PVI28资讯网——每日最新资讯28at.com

特别是在使用 DUV 机器时，在多次曝光期间需要精确对准，这可能需要时间，并且有可能发生未对准的情况，从而导致产量降低和制造这些晶圆的时间大幅增加。PVI28资讯网——每日最新资讯28at.com

林本坚表示，浸没式DUV光刻技术高可以实现六重光刻模式，可以实现更先进的工艺，但问题同样来自上述相关缺点。PVI28资讯网——每日最新资讯28at.com

PVI28资讯网——每日最新资讯28at.com

本文链接：http://www.28at.com/showinfo-24-34309-0.html浸润式光刻之父：依靠DUV可从7nm推向5nm 但成本将非常高

声明：本网页内容旨在传播知识，若有侵权等问题请及时与本网联系，我们将在第一时间删除处理。邮件：2376512515@qq.com

上一篇： i5-13500H VS. 锐龙7 7840H对比测试：酷睿AI画图3倍于对手、续航更强

下一篇： 老百姓爱！AMD 14款锐龙8000G APU全线泄露：GPU性能飙升2倍