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拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶

来源: 责编: 时间:2025-12-08 12:27:27 238观看
导读 快科技12月7日消息,前不久日本断供光刻胶的消息引发关注,虽然日本方面否认了传闻,但在光刻胶领域,日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。尤其是在先进的EUV光刻胶领域,目前主要掌握在日本JSR、信越化学、东

快科技12月7日消息,前不久日本断供光刻胶的消息引发关注,虽然日本方面否认了传闻,但在光刻胶领域,日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

尤其是在先进的EUV光刻胶领域,目前主要掌握在日本JSR、信越化学、东京应化TOK等公司手中,前几年日本与韩国爆发争端之后,日本就停止过对韩出口光刻胶等三种关键材料。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

这几年中韩国也一直在加大对半导体核心技术与材料的国产化,之前有说法称韩国已经解决了EUV光刻胶,实际上并不是,所谓的解决只是日本公司为了绕过政策限制,对韩出口从本土改为海外公司供货而已,韩国三星、SK海力士等公司依然依赖日本公司EUV光刻胶供应。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

相比三星,SK海力士主要是生产存储芯片,此前对EUV光刻胶需求不算高,但是随着工艺的提升,内存芯片也要大量使用EUV光刻工艺,为此他们也联合韩国的东进世美肯公司合作开发EUV光刻胶。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

双方合作的产品目标不仅是取代日本公司的EUV光刻胶,而且还要在性能上超越日本产品,特别是光敏性,以便提高生产效率。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

光刻胶的光敏性越强,所需的曝光时间就会越短,因此生产效率会更高,即便是同样的EUV光刻机,先进EUV光刻胶生产能力也是不同的。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

随着内存芯片不断逼近10nm甚至在10nm以下,所需的EUV光刻层数也在不断增加,第七代1d工艺已经需要7层EUV了,未来只会继续增加。SqL28资讯网——每日最新资讯28at.com

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