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支持后2nm工艺时代!ASML将发货新EUV光刻机EXE:5200 英特尔是买家

来源: 责编: 时间:2025-02-03 08:26:05 144观看
导读 快科技2月1日消息,据国外媒体报道称,ASML已经确认,即将出货新款的EUV光刻机EXE:5200,相比上代来说,表现更加强悍,当然不会卖给中国厂商。按照官方的说法,EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款,其将

快科技2月1日消息,据国外媒体报道称,ASML已经确认,即将出货新款的EUV光刻机EXE:5200,相比上代来说,表现更加强悍,当然不会卖给中国厂商。SqY28资讯网——每日最新资讯28at.com

按照官方的说法,EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款,其将拥有更高的晶圆吞吐量(EXE:5000为每小时185片以上),可以更好的为2nm工艺量产做支撑。SqY28资讯网——每日最新资讯28at.com

在这之前,ASML宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机(一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统),这标志着他们在引入0.55 NA EUV的道路上又迈出了一步。SqY28资讯网——每日最新资讯28at.com

TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径,比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了,可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。SqY28资讯网——每日最新资讯28at.com

EUV 0.55 NA 的设计旨在从2025年开始实现多个未来节点,这是业内首次部署,随后将采用类似密度的内存技术。SqY28资讯网——每日最新资讯28at.com

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