麒麟9000S之后，美国再次升级芯片禁令

近期，随着华为Mate60系列搭载的麒麟9000S芯片的亮相，全球手机和芯片领域掀起了轩然大波，堪称是技术的一次巨大飞跃。

这一芯片的诞生，被网友誉为数年来的技术巅峰，标志着中国技术已成功突破7纳米制程，摆脱了美国的封锁。这一举措给美国带来了一记沉重的打击，揭示了他们在试图锁死中国芯片技术上的失败。

在麒麟9000S芯片问世后，专家们纷纷推测美国可能会有三种反应。

首先，美国可以选择装作不曾注意，仍然坚守之前的封锁政策。其次，他们也可以考虑解封，因为封锁已然失败，这也有助于美国的芯片企业和半导体设备制造商继续从中国市场赚取利润。最后，他们也可以选择升级封锁，试图以更严格的手段来打击中国的半导体产业。

果不其然，最近美国对中国芯片产业的封锁政策再度升级。其中，对于采用193纳米波长、分辨率小于40纳米的光刻机，提出了新的“精准”目标，其DCO值不得小于2.4，而去年这一数值仅为1.5。

这一微小变动直接将ASML公司的浸润式光刻机置于困境之中，因为目前市售的浸润式光刻机的DCO值均小于2.4，按照新的禁令，它们将无法出售。

业内一致认为，若没有极紫外光刻机，要实现7纳米芯片的生产必须使用浸润式光刻机，进行多次曝光。普通非浸润式光刻机无法满足7纳米的要求，所以新禁令的针对对象显而易见。

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