屏幕下面容ID技术的核心在于将面容识别模块巧妙地隐藏于屏幕之下，实现无孔全面屏的极致体验。这一技术不仅能够提升手机的视觉美感，更能在功能上为用户带来前所未有的便捷与流畅。然而，要实现这一愿景，苹果的主要显示屏供应商——三星显示与LG显示器，正面临严峻的技术挑战。
三星显示与LG显示作为苹果信赖的合作伙伴，其技术实力自然不容小觑。但即便如此，他们在屏幕下面容ID技术的研发上也遇到了难题。红外接收器和发射器的精准集成是关键技术之一，但如何在不影响屏幕显示效果的前提下，将这些组件完美嵌入屏幕下方，成为了摆在两家供应商面前的巨大障碍。
为了克服这一难题，三星显示携手OTI Lumionics，试图通过透明阴极OLED技术来突破。然而，红外激光在穿透屏幕时遭遇的衍射问题，却让这一方案的前景蒙上了一层阴影。另一边，LG显示则选择与LG Innotek合作，采用棱镜光学镜头技术，以期提升光线在屏幕下方的吸收效率。但无论是哪种方案，都尚未达到苹果严苛的商业化标准。
值得注意的是，苹果在探索全面屏的道路上从未止步。从2022年推出的iPhone 14 Pro系列所采用的挖孔显示屏设计，便可窥见其对未来全面屏形态的执着追求。然而，挖孔设计终究只是过渡方案，苹果真正的目标，是实现屏幕下人脸识别乃至屏幕下摄像头的全面普及。
本文链接：http://www.28at.com/showinfo-22-115554-0.html苹果iPhone屏幕下面容ID技术：挑战与未来展望
声明：本网页内容旨在传播知识，若有侵权等问题请及时与本网联系，我们将在第一时间删除处理。邮件：2376512515@qq.com
上一篇： 高通拟收购英特尔，分析师提出五大疑问
下一篇： 小米手机上榜！全球智能手机市场格局重塑
Copyright © 2016-2023 天津谷骐科技有限公司 版权所有 sitemap.xml
违法及侵权请联系：2376512515@qq.com 津ICP备18001702号
津公网安备 12010102000574号
